Ausgehend von einer positiven Marktentwicklung und der erfolgreichen Produktion der seit 8 Jahren bestehenden ersten BP-TMC-Anlage entschied die Hi-Bis GmbH in Bitterfeld/Deutschland, in eine zweite Anlage zu investieren. Die Investitionssumme beläuft sich auf rund 50 Mio. Euro.
Wie auch bei der ersten Produktionsanlage, mit der der wichtigste Ausgangsstoff für den Hochleistungskunststoff Apec, ein äußerst hitzebeständiges Material, produziert wird, erhielten die EDL Anlagenbau Gesellschaft, Leipzig als Anlagenplaner und die Toyo Engineering Corp. als Anlagenlieferant die entsprechenden Aufträge. Dabei wird die EDL für das Hi-Bis2-Projekt das komplette Detail Engineering erbringen. Laut Terminplan werden die Planungsarbeiten bis Juli 2013 abgeschlossen sein. Die Inbetriebnahme ist für das Frühjahr 2014 geplant.
Erster Spatenstich mit japanischer Shinto-Zeremonie
Mittlerweile sind die Planungsleistungen soweit fortgeschritten, dass mit den Baustellenarbeiten begonnen werden kann. Dazu erfolgte am 01.10.2012 auf dem Baufeld in Bitterfeld der erste Spa-tenstich. In Anwesenheit des Ministerpräsidenten des Landes Sachsen-Anhalt, Herrn Dr. Reiner Haseloff, sowie des japanischen Botschafters in Deutschland, Herrn Takeshi Nakane, lud die Hi-Bis GmbH Bitterfeld zum feierlichen ersten Spatenstich für die neue Bisphenol-TMC-Anlage ein.
Zuvor wurde im Rahmen einer japanischen Shinto-Zeremonie dem Errichten und dem Betreiben der Anlage viel Glück und der ewige Einklang mit Natur und Mensch gewünscht.
